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氮化硅薄膜窗

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氮化硅薄膜窗氮化硅薄膜窗是X-射線顯微實(shí)驗(yàn)用品

詳細(xì)介紹

氮化硅薄膜窗口

隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn)，如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展，軟X射線顯微成像技術(shù)在范圍內(nèi)得到迅速發(fā)展。在此領(lǐng)域，需要應(yīng)用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。

1. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成；
2. RISUN提供的氮化硅窗選用低應(yīng)力氮化硅（0-250MP）薄膜，和ST氮化硅薄膜相比，低應(yīng)力產(chǎn)品更堅(jiān)固耐用，成為用戶的；
3. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。

透光度
使用透射（光學(xué)）顯微鏡時(shí)，*可以透過(guò)薄膜窗進(jìn)行觀察。但薄膜窗的厚度有一定限制，否則其透光度會(huì)明顯下降。對(duì)于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對(duì)于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶。