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紋影儀

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產(chǎn)品型號(hào)WKWY-300

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更新時(shí)間：2022-10-24 08:49:05瀏覽次數(shù)：453次

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產(chǎn)品分類 品牌分類

  紋影儀

聚焦紋影儀

彩色紋影儀

大視場(chǎng)紋影儀

泰普勒紋影儀
  測(cè)速儀

光子多普勒測(cè)速儀

時(shí)間間隔測(cè)量?jī)x

光學(xué)干涉儀

數(shù)字粒子圖像測(cè)速儀

爆速儀
  光彈儀

反射式光彈儀
  瞬態(tài)多光譜輻射測(cè)溫系統(tǒng)

瞬態(tài)多光譜輻射高溫計(jì)

瞬態(tài)等離子體測(cè)溫儀
  窗口玻璃

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四川物科光學(xué)精密機(jī)械有限公司

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聯(lián)系人：劉光海

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

WKWY-300紋影儀是利用光在被測(cè)流場(chǎng)中的折射率梯度正比于流場(chǎng)的氣流密度的原理，將流場(chǎng)中密度梯度的變化轉(zhuǎn)變?yōu)橛涗浧矫嫔舷鄬?duì)光強(qiáng)的變化，使可壓縮流場(chǎng)中的激波、壓縮波等密度變化劇烈可用來(lái)觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動(dòng)的分布、傳播過程以及擾動(dòng)強(qiáng)度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項(xiàng)流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學(xué)反應(yīng)等學(xué)科的流場(chǎng)密度變化科學(xué)研究。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹

紋影儀可用來(lái)觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動(dòng)的分布、傳播過程以及擾動(dòng)強(qiáng)度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項(xiàng)流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學(xué)反應(yīng)等學(xué)科的流場(chǎng)密度變化科學(xué)研究。泰普勒紋影儀是傳統(tǒng)、使用的一種。

技術(shù)參數(shù)：

參數(shù)	值	最小值	備注
視場(chǎng)	Φ1000mm	Φ50mm
相對(duì)孔徑	1:10	1:20
像鑒別率	≥40lp/mm
照明設(shè)備	普通激光光源、LED光源、鎢燈光源
成像傳感器	數(shù)碼單反相機(jī)、高速相機(jī)、記錄干板
狹縫類型	單狹縫、多狹縫、小孔、色散棱鏡或光柵、彩色圓孔或者方孔狹縫
刀口類型	單刀口、雙刀口、四刀口、柵格刀口、圓形刀口等
結(jié)構(gòu)類型	積木式、筒式、平板式或者相關(guān)結(jié)構(gòu)類型

其中主反射鏡光學(xué)材料：K9光學(xué)玻璃，應(yīng)力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護(hù)膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護(hù)膜，反射系數(shù)≥90%，面型精度＜1/10波長(zhǎng)。

該系統(tǒng)主要的光機(jī)部件主要可以分為：光源狹縫系統(tǒng)、主球面反射鏡裝調(diào)機(jī)構(gòu)、刀口成像系統(tǒng)三個(gè)部分。其中，光源狹縫系統(tǒng)和其中一塊主球面反射鏡組成準(zhǔn)直系統(tǒng)，刀口成像系統(tǒng)與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統(tǒng)，分別布局于兩個(gè)平臺(tái)上。

紋影法，又稱紋影技術(shù)，包括黑、白紋影法，彩色紋影法和干涉紋影法，是用紋影系統(tǒng)進(jìn)行流場(chǎng)顯示和測(cè)量的常用的光學(xué)方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出，并應(yīng)用在光學(xué)玻璃折射率的檢測(cè)中。

1952年，Holde和Norht在紋影系統(tǒng)上使用白光的分光棱鏡，實(shí)現(xiàn)了彩色紋影成象，擴(kuò)大了紋影技術(shù)的應(yīng)用范圍；1962年，Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應(yīng)后指出，紋影法實(shí)用于水洞的流場(chǎng)顯示；1974年，Merzkirch對(duì)可壓縮流場(chǎng)中的紋影技術(shù)進(jìn)行了分類，把涉及到在紋影系統(tǒng)上進(jìn)行的干涉紋影法的研究，包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等，均歸類于紋影技術(shù),并得到國(guó)內(nèi)同行的認(rèn)可。

關(guān)鍵詞：傳感器成像系統(tǒng)