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ETSA-300氣浮平臺說明:1.氣浮平臺克服了傳統(tǒng)機械定位臺行程短,響應滯后大,摩擦阻力等不足,實現了長行程高精度與高速定位功能,在半導體光刻設備,精密測量和生物醫(yī)學等領域中具有不可替代的作用
ETSA-300氣浮平臺
說明:
1.氣浮平臺克服了傳統(tǒng)機械定位臺行程短,響應滯后大,摩擦阻力等不足,實現了長行程高精度與高速定位功能,在半導體光刻設備,精密測量和生物醫(yī)學等領域中具有不可替代的作用。
2.重復定位精度高,俯仰偏擺角度小,運動臺與導軌使用同種材料,在溫度變化較大的工況下不會出現氣 浮臺常見的“抱死"現象。
特點:
通過靜壓氣浮隔離機械運動副之間的接觸,提高平臺機構運動精度、表面平滑、微小偏差(俯仰, 偏擺等)、性能穩(wěn)定、沒有機械損耗、“零"摩擦可使其進入納米級應用。
使用場所:
精密加工、精密測量、微電子制造業(yè)、光刻機平臺、半導體加工業(yè)、掃描。
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