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真空磁懸浮熔煉爐

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一、設(shè)備用途　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來(lái)飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景

詳細(xì)介紹

一、設(shè)備用途
　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來(lái)飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、設(shè)備特點(diǎn)

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無(wú)接觸冶煉，干凈無(wú)污染。

2·冶煉溫度高，設(shè)計(jì)溫度可達(dá)2100及以上，專門(mén)應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮專用IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·采用兩級(jí)分子泵控制系統(tǒng)真空度高，極限可達(dá)5.0*10-4pa。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1·設(shè)備型號(hào)：KZGF-0.25

2、額定功率：65Kw

3、容量（以鈦計(jì)）：0.25Kg

4、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

5、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

6、控制方式：模擬屏+電動(dòng)控制（可擴(kuò)展plc+觸摸屏）

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