CIK納米水性涂料乳化分散機 高速分散機實驗室 返回列表頁

CIK納米水性涂料乳化分散機，納米涂料分散機，CIK此款三級高速剪切分散機，采用分體式結(jié)構(gòu)，zui高轉(zhuǎn)速可達14000rpm，有三級工作盤，有六種不同的分散盤規(guī)程可以選擇，由粗到細，粒徑細化更小，分散更加均勻。

公司有樣機可供客戶實驗，歡迎廣大客戶來我司參觀指導，張猛。

凡是用水作溶劑或者作分散介質(zhì)的涂料，都可稱為水性涂料。水性涂料包括水溶性涂料、水稀釋性涂料、水分散性涂料3種。水溶性涂料是以水溶性樹脂為成膜物，以*及其各種改性物為代表，除此之外還有水溶醇酸樹脂、水溶環(huán)氧樹脂及無機高分子水性樹脂等。

傳統(tǒng)高速分散機的主要作用是將涂料研磨漿進行預混合?，F(xiàn)代化涂料原材料中的顏料、填料都是超細化易分散的，加上潤濕分散機的運用，許多涂料不必進行研磨，僅僅使用高速分散機就可以達到規(guī)定的細度。但是對于納米涂料的生產(chǎn)，傳統(tǒng)的高速分散機是無法到達要求的，細度的要求無法滿足。

溶液分散的難點是：粉體分散到液體里面，容易形成二級團聚體，會將原本納米級的粒徑變成大的團聚體，從而難以分散細化，影響zui終產(chǎn)品性能。上海切可應對這種現(xiàn)狀，研發(fā)并生產(chǎn)出型的研磨+分散設備，研磨和分散一體化的設備，先研磨將二級團聚體打開，再分散，從而還原原始的納米粒徑。結(jié)合南昌某客戶的案例，使用上海切可NKD2000系列研磨分散機設備對納米涂料進行處理，研磨分散3遍，即可還原納米級粒徑，客戶很是驚喜和認可。

CIK超高速分散均質(zhì)機通過分散裝置中的轉(zhuǎn)子和定子的精密配合，產(chǎn)生強大剪切力，確保被加工物料每分鐘承受數(shù)萬次的剪切粉碎。具有轉(zhuǎn)速高，運轉(zhuǎn)穩(wěn)定，噪音小，功率大，分散均質(zhì)效果好等特性，并兼有攪拌、搗碎、乳化等多種功能。廣泛應用于醫(yī)學試驗、化工制藥、生物制品、食品加工等領域，對于分散搗碎生物、植物、化學、食品、飲料等制品具有的效果。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

NKD2000系列研磨分散設備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 

CIK納米水性涂料乳化分散機設備型號表格：

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